외국계 기업의 국부유출과 재벌 경제의 대외의존성 (12)

국제비교로 2020년 한국의 기술수준을 살펴보면, 선진국과의 격차는 조금씩 좁히고 있으나, 중국의 추월을 허용한 것으로 나타났다.

▲ 국가별 기술수준(%) 및 기술격차(년) (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))
▲ 국가별 기술수준(%) 및 기술격차(년) (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))

과학기술정보통신부에 의하면, 2020년 한국의 과학기술 수준은 최고 기술보유국인 미국에 비해 80.1%이며, 기술격차는 3.3년으로 나타났다. 주요 국가별 기술수준은 미국을 100으로 잡았을 때 EU(96%), 일본(87%), 중국(80%) 등으로, 한국(80%)은 EU, 일본보다 많이 뒤떨어지며, 같은 80%로 중국에는 추격을 허용하였다.

11대 분야별 기술수준 변동을 나타낸 아래 표를 보면, 미국은 10대 분야에서 1위이며, EU는 기계·제조 분야에서 1위를 차지하였다.

한국의 기술수준 변동을 보면, 건설·교통 분야가 미국 대비 기술수준(84%)이 가장 높고, ICT·SW 분야는 기술격차(1.9년)가 가장 적은 것으로 평가되었다. 그러나 우주·항공·해양 분야는 미국 대비 기술수준(68.4%)이 가장 낮고, 기술격차(8.6년)도 가장 큰 것으로 평가되었다. 중국이 한국을 추월한 분야는 우주·항공·해양(한국 68.4%, 중국 81.6%), 국방(한국 75, 중국 81.7), 소재·나노(한국 80.8, 중국 79.9), 생명·보건의료(한국 77.9, 중국 78), 에너지·자원(한국 80.2, 중국 81.6), ICT·SW(한국 83.0, 중국 85.7) 등이다.

* ICT : 컴퓨터를 기반으로 정보 및 정보 시스템을 제공하고 이용하는 기술
* SW : 소프트웨어

11대 분야별 기술격차 변동을 나타낸 아래 표를 보면, 2020년 한국의 기술수준은 2018년 대비 모두 증가(1.6~5.0%p)하였고, 기술격차는 ‘우주·항공·해양’ 분야를 제외하고 감소(-0.2~-1.2년)하였다. 기술수준이 가장 많이 증가한 분야는 ‘건설·교통’ 분야(5.0%p)이며, 기술격차가 가장 많이 감소한 분야는 ‘국방’ 분야로(-1.2년) 나타났다.

중국, EU 및 미국 11대 분야의 기술수준 모두 2018년 대비 ‘유지 또는 증가’하였다(각각 1.0~5.5%p, 0~1.5%p, 0~0.3%p).

일본은 우주·항공·해양, 국방, 에너지·자원 등은 향상되었지만 나머지는 정체되었다. 그러나 일본의 기술수준은 평균 87.3으로 한국(80.1)과의 차이가 있으며, 기술격차도 한국과는 1.3년 차이가 난다.

▲11대 분야별 기술수준(%) 변동 (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))
▲11대 분야별 기술수준(%) 변동 (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))
▲11대 분야별 기술격차(년) 변동 (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))
▲11대 분야별 기술격차(년) 변동 (자료 : 과학기술정보통신부 보도자료(2021.3.12.))

한편 한국과학기술기획평가원에 따르면, 아래 표와 같이 우리나라는 논문 증가율과 특허 증가율은 중국에 이어 2위를 유지하고 있어 매우 빠른 속도로 기술개발이 일어나고 있는 모습을 보이고 있다. 하지만 특허와 논문 영향력은 모두 미국 절반 수준에 머무르고 있어 양적 성장은 활발하지만 질적 성장은 아직 부족하다는 것을 알 수 있다. 또한 주요 4개국 특허 점유율에서 한국은 EU와 미국의 1/4 수준이며 청구항1) 역시 미국의 절반에 머무르고 있어 질적인 면에서 아직 많은 한계가 있음을 보여 준다.

▲ 국가별 연구 활동력 및 기술력 분석 (자료 : 한국과학기술기획평가원(2019), 2018 기술수준평가)
▲ 국가별 연구 활동력 및 기술력 분석 (자료 : 한국과학기술기획평가원(2019), 2018 기술수준평가)

[본문 주석]

1) 청구항이란 특허출원인이 특허출원서에 자신의 발명에 대하여 보호를 받기를 원하는 사항을 기재한 것을 말한다(특허법제42조 제4항). 청구항은 발명의 구성에 없어서는 안되는 구성요소나 단계로 이루어진다. 특허출원서에 청구항을 기재할 것을 요구하는 이유는 특허를 받을 수 있는 발명 즉 특허대상을 특정하기 위한 것이다. 특허대상을 특정하기 위하여 특허법에는 청구항에서 발명을 명확하고 간결하게 기재할 것을 요구한다. 그 이유는 첫째 특허침해를 구성하는 행위가 무엇인지를 분명하게 하여 침해행위자에게 경고를 하고, 둘째 청구항에 기재된 발명에 대한 특허심사를 쉽도록 하여 주기 위한 것이다. 특허출원된 발명이 특허법이 요구하는 청구항의 특정성의 요건 즉 특허대상을 특정하지 못하는 경우에는 특허의 발급이 거절되고 이미 발급된 특허라고 하더라도 무효가 될 수도 있다. 결국 청구항은 발명의 공식적 개념정의이며 특허라는 독점권이 가지는 권리범위를 설정한다. 신규성이나 진보성 또는 산업상 이용가능성은 바로 이 청구항에 의하여 주장된 바를 가지고 판단하며 특허침해행위의 성립여부도 바로 이 청구항의 권리범위가 어느 정도이냐에 달려있다. 선진국일수록 자신의 기술을 다른 나라에서 쉽게 사용하지 못하도록 청구항 수를 늘린다.

2) IP4란 한국, 미국, 일본, EU, 중국 중 4개국 출원을 뜻한다.

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